主要技術指標：
1、真空抽氣及測量系統
1.1、極限真空度≤6.0×10-6Pa（沖入氮氣后4小時達到）。
1.2、系統漏率≤1.0×10-8Pa·L/s。
1.3、系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，24分鐘可達到6.0×10-4Pa。
2、真空腔室系統
2.1、真空腔室采用單室圓筒形上蓋電動升降結構，方便物料的取放和實現樣品臺的拆裝、清洗。
2.2、真空腔室尺寸約Ф450mm×高420mm，選用304不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行電解拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封。
2.3、真空室正前方設置有一套DN100觀察窗及手動擋板，方便實驗觀察，同時也避免鍍膜實驗時對觀察窗表面的污染。
2.4、濺射室烘烤、照明：采用紅外加熱除氣方式，烘烤溫度：150℃。
2.5、真空室內有襯板，避免濺射材料直接濺射到濺射室真空壁上。
3、磁控靶及電源系統
3.1、磁控靶：3英寸磁控靶3個，標準型永磁靶（非強磁性）3個，水冷，與法蘭采用氟橡膠圈密封，采用騰鰲真空公司生產的磁控靶。
3.2、電源：DC：500W，2臺。
RF：500W，1臺
3.3、磁控靶基間距：磁控靶與樣品距離可調，距離為60～130cm，可調手動調節，有刻度指示。
3.4、磁控靶擋板：兩套磁控靶帶有氣動擋板。
4、鍍膜方式
鍍膜方式采用兩靶共濺射成膜，樣品被鍍面向下，防止污染。
5、樣品臺系統
具有加熱、旋轉功能。
5.1、樣品尺寸：一工位可加熱旋轉樣品臺一套；最大可放置4英寸的樣品夾具一套，放置四個25×25mm的樣品。
5.2、樣品臺最高的加溫溫度為室溫～600℃，控溫精度：±1℃，程序控溫。
5.3、樣品實現自轉，轉速為：0～30轉/分。
6、氣體控制系統
共有三路氣體：一路用于真空室解除真空（充入干燥氮氣）；兩路為工藝氣體（氣體如Ar、O2等，一路備用），工藝氣體氣體流量通過兩路質量流量控制器控制，流量范圍分別為：0～100sccm。
7、安全防護系統
7.1、系統帶有斷水斷電，連鎖保護以及報警功能
7.2、設備帶有防誤操作安全保護功能。
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