• <th id="ourdu"></th>
      <ol id="ourdu"></ol>
      <button id="ourdu"><acronym id="ourdu"></acronym></button>
      <rp id="ourdu"><object id="ourdu"><input id="ourdu"></input></object></rp>
      <progress id="ourdu"></progress>

    1. 服務熱線:

      產品介紹
      PRODUCTS
      _20220808154841
      2022798c0457cb2b9b922d91457
      側面圖

      磁控濺射雙工位專用腔體及附件

      _20220808154841
      2022798c0457cb2b9b922d91457
      側面圖
      產品描述
      參數

      主要技術指標:

      1.腔體1(磁控濺射鍍膜系統)

      1.1、真空抽氣及測量系統

      1.1.1、系統漏率:≤1.0×10-10Pa•m3/s。

      1.1.2、配有真空計,真空計能測試1.0×105Pa至5.0×10-8Pa范圍真空度。

      1.3、真空腔體系統

      結構:鍍膜腔體材料為304不銹鋼材料,SΦ600球形真空腔體,前方開門鉸鏈結構,方便裝取樣品。

      1.4、磁控靶系統

      1.4.1、平面樣品磁控靶排布:平面樣品鍍膜共采用四套3英寸磁控靶實現鍍膜;磁控靶安裝腔體下底靶面傾斜上,樣品架安裝在腔體上蓋頂,樣品被鍍表面朝下,上共濺射成膜的方式;磁控靶軸線與樣品法線成39°角,磁控靶軸心指向樣品中心,與樣品距離為170~210mm可調。

      1.4.2、柱狀樣品磁控靶排布:柱狀樣品鍍膜共采用靶套3英寸磁控靶實現鍍膜;四套磁控靶安

      腔體上部靶面傾斜下,磁控靶軸線與樣品法線成50º角,磁控靶軸心指向柱狀樣品上邊緣,與樣品距離為160~200mm可調;另外四套借用平面樣品架磁控靶。

      2.腔體2(電子束蒸發鍍膜系統)

      2.1、真空抽氣及測量系統

      2.1.1、系統漏率:1.0×10-10Pa•m3/s。

      2.1.2、配有真空計,真空計能測試1.0×105Pa至5.0×10-8Pa范圍真空度。

      2.2、真空腔體系統

      2.2.1、結構:鍍膜腔體材料為304不銹鋼材,內尺寸約為Φ550×620mm圓柱型真空腔體,前

      2.3、電子槍系統

      2.3.1、電子槍安裝在真空腔體正下方,采用從下向上的鍍膜方式鍍膜,坩堝中心與平面樣品軸心同軸,
      坩堝與樣品距離為300mm。電子槍坩堝驅動、高壓電極法蘭及掃描法蘭開口尺寸為Φ32mm,密封方式采用螺母鎖緊氟膠圈密封結構。

      掃二維碼用手機看
      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
      上一個
      下一個

      產品展示

      束源爐蒸發鍍膜系統
      更多 白箭頭 黑箭頭
      磁控濺射雙工位專用腔體及附件
      更多 白箭頭 黑箭頭
      鍍膜零件暫存系統
      更多 白箭頭 黑箭頭
      鍍膜零件暫存系統
      更多 白箭頭 黑箭頭

      Copyright ? 2022 沈陽騰鰲真空技術有限公司 All Rights Reserved

      遼ICP備15018801號   網站建設:中企動力  沈陽     SEO標簽

      img

      手機二維碼

      精品午夜无码一区二区在线观看
    2. <th id="ourdu"></th>
        <ol id="ourdu"></ol>
        <button id="ourdu"><acronym id="ourdu"></acronym></button>
        <rp id="ourdu"><object id="ourdu"><input id="ourdu"></input></object></rp>
        <progress id="ourdu"></progress>